Ketebalan dari suatu lapisan tipis dapat diukur menggunakan pola frinji yang terbentuk dari interferensi. Pergeseran pola interferensi yang dihasilkan dapat digunakan untuk memperoleh ketebalan lapisan tipis menggunakan metode interferometri. Pengukuran ketebalan lapisan tipis dengan menggunakan metode reflektometri spektroskopi dipilih untuk menjadi pembanding metode interferometri dalam pengukuran ketebalan lapisa tipis. Reflektometri spektroskopi adalah studi yang menganalisis reflektansi spektral untuk mengukur karakteristik bahan seperti ketebalan dan indeks bias melalui interferensi internal terjadi oleh beberapa refleksi di dalam lapisan film. Pada sampel pertama didapat ketebalan lapisan tipis sebesar (2,6 ± 0,7)×100 nm; (1,7 ± 1)×100 nm ; dan (2,5 ± 0,4)×100 nm. Sampel kedua didapat ketebalan lapisan tipis sebesar (3,1 ± 0,9)×100 nm; (6 ± 0,8)×10 nm ; dan (1,3 ± 0,09)×100 nm. Sampel ketiga didapat ketebalan lapisan tipis sebesar (2,2 ± 0,07)×100 nm; (3,2 ± 0,3)×100 nm ; (10 ± 0,1)×100 nm. Hasil pengukuran metode refloktrometri spektroskopi pada sampel pertama didapat ratarata ketebalan lapisan tipis sebesar (3,9 ±0,1)µm, sampel kedua sebesar (2,2 ±0,2)µm dan sampel ketiga sebesar (3,2 ±0,3)µm.
