Salah satu metode untuk degradasi zat warna adalah proses oksidasi lanjut melalui reaksi Fenton dan Foto Fenton dengan katalis Besi Oksida. Pada penelitian telah dilakukan modifikasi Metal-Organic Frameworks jenis ZIF-8 (sebagai material pendukung) dengan nanopartikel Fe3O4 membentuk komposit Fe3O4/ZIF-8. Pengaruh penambahan Fe3O4 terhadap ZIF-8 dikaji lebih lanjut pengaruhnya terhadap karakteristik material yang dihasilkan dan kinerjanya untuk degradasi zat warna indigo karmina berdasarkan proses Fenton dan Foto Fenton. Sintesis ZIF-8 dilakukan dengan metode elektrokimia pada suhu ruang dengan tegangan 15 volt serta kuat arus antara 0,02-0,3 A. Komposit Fe3O4/ZIF-8 telah berhasil disintesis menggunakan metode ex-situ menggunakan bantuan ultrasonik homogenizer dengan persentase Fe3O4 3?n 10% (%b/b). Hasil karakterisasi menggunakan X-Ray Diffraction (XRD) dan Fourier Transform Infra-Red (FTIR) menunjukkan karakteristik komposit Fe3O4/ZIF-8 memiliki pola difraktogram dan pita serapan yang merupakan gabungan dari Fe3O4 dengan ZIF-8 dengan munculnya puncak baru akibat penambahan Fe3O4. Analisis menggunakan Field Emission Scaning Electron Microscopy-Energy Dispersive X-Ray (FESEM-EDX) dan Transmission Electron Microscopy (TEM) menunjukkan keberhasilan pembentukan struktur core shell yang diperkuat dengan menurunnya persentase unsur Zn secara drastis dan meningkatnya persentase unsur Fe pada komposit Fe3O4/ZIF-8. Penambahan Fe3O4 pada material pendukung menyebabkan menurunnya luas permukaan dan ukuran pori material yang diketahui melalui analisis N2 isotherm adsorpsi-desorpsi. Kestabilan termal material menurun setelah modifikasi Fe3O4 yang mengindikasikan adanya penataan ulang struktur ZIF saat pembentukan struktur core shell pada komposit. Hasil analisis menggunakan Vibrating Sample Magnetometer (VSM) menunjukkan nilai magnetisasi komposit Fe3O4/ZIF-8 yang mengindikasikan keberhasilan modifikasi nanopartikel Fe3O4. Komposit 10?3O4/ZIF-8 memiliki efisiensi tetinggi dalam degradasi zat warna indigo karmina mencapai 67,84% pada proses Fenton dan 94,88% pada proses Foto Fenton.
