Penumbuhan lapisan tipis NiFe dengan teknik elektrodeposisi berhasil dilakukan. Untuk meningkatkan nilai magnetoresistansi dan memperbaiki struktur kristal maka lapisan tipis di- annealing. Hasil penelitian menunjukkan bahwa struktur kristal lapisan tipis NiFe yang terbentuk adalah kubus pusat muka. Variasi suhu yang diberikan pada saat annealing tidak mempengaruhi stuktur kristal dari lapisan. Bidang hkl dari lapisan tipis NiFe sebelum dan setelah annealing adalah sama yaitu (111), (200), dan (220). Dari hasil penelitian juga diketahui bahwa kenaikan suhu pada saat annealing dapat meningkatkan nilai magnetoresistansi dari lapisan tipis NiFe. Nilai rasio magnetoresistansi terbesar diperoleh pada sampel dengan suhu larutan elektrodeposisi 50 °C setelah sampel mengalami perlakuan annealing pada suhu 150 ºC yaitu sebesar 10,22 %